前瞻聚焦離子束系統 Advanced Focused Ion Beam System
聚焦離子束系統(Focus ion beam, FIB)是廿世紀新開發的指標性儀器之一,主要整合臨場橫截面與平面分析、定點TEM試片製作、微奈米圖案與元件製作等重要功能。隨著電腦運算能力的快速發展和機械精密加工的進步,功能也一再加強。(圖一)
FIB具備優異的試片製備技術,能定點切中微小區域,快速製備出滿足高解析度電子顯微鏡拍攝條件及微區域成分分析的理想觀察試片,且搭配最新型的顯微鏡設備來觀察影像,可提供完整的樣品檢測分析。(圖二)
本中心的前瞻聚焦離子束系統為雙束型離子束。所謂雙束型是指具有「電子束」與「離子束」。電子束即為掃描式電子顯微鏡,而離子束基本原理與SEM類似,僅是所使用的粒子不同(e- vs. Ga+)與透鏡型式(磁透鏡vs.靜電透鏡)位置不同。液態金屬LMIS(Liquid Metal Ion Source)則是提供離子束Ga元素來源,將Ga(鎵)元素離子化成Ga+,利用電場加速與靜電透鏡(electrostatic)聚焦,將高能量(高速)的Ga+利用物理碰撞來進行特定圖案的加工。
本中心「奈米材料分析技術團隊」共有兩台聚焦離子束電子顯微鏡:FIB I. FEI Nova 200(圖三左)、FIB II. FEI Helios NanoLab G3 CX(圖三右),規格比較請參見下表一。兩機台皆可依照超高解析定點縱剖面切割、特殊圖形製作、TEM試片製備等不同需求,提供優越的委託操作技術服務(代工)。其中,FIB II.(FEI Helios NanoLab G3 CX)為新購機台,於2017年2月正式進入貴儀系統管理,提供產、官、學界儀器操作的另一項選擇。預約機台請至科技部貴重儀器管理系統(https://vi.most.gov.tw/nsc-vi/index/default.action)查詢。
表一:FIB I.與FIB II.規格比較

◆ 聯絡窗口:FIB I.: 賴修偉工程師、FIB II.: 梁美蘭工程師
◆ 儀器訓練課程:每年寒暑假開課,歡迎報名。
