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本中心微奈米科技組，原為國立成功大學微奈米科技研究中心，是國立成功大學三個校級研究中心之一，成立於1997年。於2021年2月1日，與貴重儀器中心及儀器設備中心合併為核心設施中心。
本組有45部以上各式微奈米製程與檢測設備儀器，集中置於儀器設備大樓B1之165坪Class 1000奈米製程無塵室及125坪之生醫影像實驗室及奈米功能暨奈米檢測分析實驗室，由專業碩士級工程師與博士級研究員管理與維護。所有設備均採專職工程師代工與合格使用者操作雙軌制。以24小時網路預約儀器服務，提供方便、公開、公平之儀器使用與透明化收費制度。 本組整合主管教授、特聘教授群、博士級研究員與專業工程師，戮力開發各式微奈米元件製程與檢測分析技術，於前瞻奈米技術具深厚之研發能量。每年服務將近1.5萬人次全國師生、超過50間廠商、100件以上產業檢測報告。 本組積極與產學研界進行合作結盟，整合建置前瞻研究教學及奈米科技製程與檢測之最先進儀器設備，於資源共享制度下提供製程與分析檢測服務，滿足業界在開發新材料結構、電子產品、製程時之需求，以成為新型態產學研鏈結中心為目標，提供南台灣地區各學術機構、產業界及研究單位服務與研究合作機會，藉由多方產官學研交流，加強跨領域與校內外機構組織合作。
製程組近年來專注於奈米元件之製程研發，將光學微影／電子束微影－乾／溼蝕刻製程進行整合，發展奈米元件製程平台。目前開發出多項特色製程，包含10 nm線寬製程、高精準度多層對準（sub-20 nm）微影技術、整合製程（Mix & Match）與超高深寬比蝕刻（AR > 45），並有開發多樣應用元件之經驗，包含光學元件、電子元件、壓印模板、3D結構等。具備新式SUSS雙面光罩對準機，可製作次微米元件，搭配完善的奈米深蝕刻系統（感應耦合離子電漿）及金屬蝕刻系統（金屬、III-V族材料），可提供高解析度之穩定性製程。於表面薄膜成長技術開發方面，本組除具備多部金屬或氧化物薄膜沉積設備外，也同時發展奈米級鍍膜技術，其中在二維材料部分包含能沉積高品質石墨稀薄膜，及二階段成長高品質層狀之MoS2及WS2薄膜之技術，能成長於Si晶圓片或Sapphire藍寶石基板上，並經拉曼、螢光光譜檢測後皆顯示其結晶性佳，且具半導體特性，其應用層面廣泛。此外，亦建置全功能型原子層沉積系統，包含電漿（Plasma）系統及臭氧（Ozone）產生器系統，可承載固態、液態與氣態前驅物，為全台灣最先進的原子層鍍膜設備之一，積極開發新穎薄膜材料與低溫製程技術，可提供多種介電氧化物與透明導電氧化物鍍膜服務，可應用於矽基半導體、化合物半導體、功率元件、封裝、LED、太陽能、平面顯示器、積體光學、生醫等相關產業。
檢測組提供專業電子顯微鏡檢測分析與進階光學檢測解析，提供材料試片製備到顯微結構與物化特性檢視之專業分析服務。於電子顯微鏡檢測分析，在試片製備方法、拍攝技巧及基礎專業知識判斷能力上皆呈現高精確的專業檢測水準。搭配全新雙束型聚焦離子束設備，可進行離子束影像分析、建立3D圖像建構分析功能。此外，團隊共同開發液態電子顯微鏡檢測技術，可突破傳統電鏡限制，利用特殊載具直接進行液態、膠態、濕式或含水式樣品檢測，並將相關技術成功技轉予液鏡科技公司，協助該新創公司進行液態電子顯微檢測技術之開發與應用。於高階光學系統技術開發方面，本組自製多光子顯微鏡系統，飛秒雷射波長可從680至1600 nm。利用非線性光學原理，掃描解析度可在200 nm以下，在生醫應用上能降低散射效應，有利於觀察高散射性樣本，並提供3D影像重組，適合細胞、生物組織影像與感測之應用與開發。針對二維材料，使其原子邊緣和邊界可直接利用光學成像，此技術為研究和運用新興的二維材料和元件提供了新的途徑。另備有顯微拉曼與螢光光譜儀、X光繞射儀、光譜式橢圓偏光儀、奈米粒子追蹤分析儀、傅立葉轉換紅外光光譜儀、分光光譜儀、超高速離心機等。
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